صانعي الدوائر الصينية طلبوا من الحكومة إنشاء تحليل داخلي لـ ASML.

قادة الصين في صناعة أشباه الموصلات يدعون إلى تنسيق وطني لتطوير تقنية الطباعة بالضوء فوق البنفسجي (2026–2030)

في مقال منشور ضمن إصدار خاص، قدم كبار المسؤولين في أكبر الشركات الصينية في مجال التصنيع الدقيق خطة عمل موحدة. الهدف هو تزامن الجهود لتطوير أنظمة الطباعة وتحسين الاعتماد التقني للبلاد.

من الذين تحدثوا ومحتوى خطابهم المختصر
تشاو جينغجون (مجموعة نوارا للتكنولوجيا) دعا إلى توحيد الموارد الوطنية لدمج الاختراقات التي تم تحقيقها في مؤسسات مختلفة. تشننانشان (شركة يانغتسي لتقنيات الذاكرة) رأى ضرورة إنشاء «ASML صينية» لتجاوز حاجز الإمدادات الخارجية وتعزيز الاكتفاء الذاتي. لي ويبين (إمبيران للتكنولوجيا) أكد أهمية توزيع الأموال والموارد البشرية لإنشاء شركة متكاملة. ممثلو مؤسسات رائدة في صناعة أشباه الموصلات حددوا نقاط الضعف الرئيسية: برمجيات أتمتة التصميم، مواد رقائق السيليكون وتقنيات الغازات.

لماذا الآن مهم
* القيود الأمريكية على الصادرات (من 2020) تحد من وصول الصين إلى تقنيات أقل من 7 نانومتر، مما يجعل الطباعة بالضوء فوق البنفسجي حاسمة.
* ASML هي المزود الوحيد في العالم للآلات للطباعة بالضوء فوق البنفسجي. يتكون الجهاز من 100,000 مكوّن من 5,000 مورد؛ تقوم ASML فقط بتجميعها.
* الاختراقات الداخلية: حققت الصين نجاحات كبيرة في مجالات محددة (أشعة الليزر فوق البنفسجي، تصنيع رقائق السيليكون، الأنظمة البصرية)، لكن دمج هذه التقنيات ما زال مهمة صعبة.

المجالات الرئيسية للعمل
1. إنشاء منصة موحدة للبحث والتطوير للأجهزة والمكوّنات المتقدمة.
2. تطوير برمجيات أتمتة تصميم الإلكترونيات.
3. تعزيز علم المواد: إنتاج رقائق سيليكون عالية الجودة والغازات اللازمة للطباعة بالضوء فوق البنفسجي.
4. إقامة تنسيق وطني ضمن الخطة الخمسية (الخامسة عشر).

تقييم الوضع الحالي
* تحتل الصين حوالي 33٪ من سوق التصنيع الدقيق العالمي في العمليات الناضجة (28 نانومتر وما فوق).
* لدى البلاد إمكانات كبيرة في التصميم والتصنيع في هذه القطاعات.

في النهاية يطالب الخبراء الحكومة بتطوير خطط تنفيذ دمج جميع المكوّنات الرئيسية للطباعة بالضوء فوق البنفسجي على وجه السرعة. سيسمح ذلك بإنشاء «ASML» خاصة بالصين وضمان استقلال الصين في التقنيات الحيوية للتصنيع الدقيق.